[JLCS-News:00606] 偏光計測・制御技術研究グル ープ 第8回偏光計測研究会：開 催のお知らせ

From: 田所　利康
Fri, 8 Jun 2012 12:05:43 +0900
日本液晶学会会員各位
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偏光計測・制御技術研究グループ 第8回偏光計測研究会：開催のお知らせ
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日本光学会(応用物理学会)「偏光計測・制御技術研究グループ」は、本年6月29日（金）に
第8回偏光計測研究会を開催いたします．
偏光の計測・制御は，液晶の基礎研究から液晶デバイスの製品開発に至るあらゆるステージで非常に重要な光学技術です．
今回は大変貴重なチュートリアル講演が予定されていますので，液晶研究に携わる皆様方の積極的な聴講ご参加を心よりお待ち申し上げます．
発信者：テクノ・シナジー　田所利康（tado@techno-synergy.co.jp）
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偏光計測分野の研究者・技術者・学生の皆様
　いつも日本光学会　偏光計測・制御技術研究グループの活動にご協力戴きましてありがとうございます．
　下記のように，６月29日(金)に第８回偏光計測研究会を株式会社堀場製作所東京セールスオフィス(東京・淡路町)にて開催致します。
　本研究会は、エリプソメトリーやポラリメトリーに代表される偏光を用いた計測技術に関して議論と情報交換を行い、この技術分野における日本の研究開発を活性化し、そのレベルを向上しようとする集まりです。
　2007年11月から活動を開始し、半年毎に研究会を開催しております。これまでに東北大学（仙台）、産業技術総合研究所（つくば）、北海道大学（札幌）、横浜市立大学（横浜）、山梨大学（甲府）、宇都宮大学、東京工芸大学と7回開催されてきました。
　偏光計測に関心をお持ちの研究者、技術者、学生の皆様のご参加をお待ちしております。また、本開催案内を適宜関係者の方々に転送いただければ幸いです。なお、偏光計測研究会のホームページにも、この情報が掲載されます。
http://res.tagen.tohoku.ac.jp/~psi/
　参加ご希望の方は、下記申込書にご記入の上、6月22日(金)までにメールにてお申込みください。
　懇親会に参加ご希望の方も一緒にご記入ください。
日時：2012年6月29日金曜日 10:15～17:30
場所：株式会社堀場製作所 東京セールスオフィス
　　　東京都千代田区神田淡路町二丁目６番 神田淡路町二丁目ビル
http://www.horiba.com/jp/contact-us/worldwide-locations/asia-oceania/japan/horiba-ltd/tokyo-branch/
参加費：一般 3,000円、学生 300円
参加申込締切：2012年6月22日（金）
本研究会に参加ご希望の方は、以下の参加申込書に必要事項を明記の上
sales.hor@jp.horiba.com
宛てにお申込みお願いいたします。
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第8回偏光計測研究会 参加申込書
●ご氏名：
●ご所属：
●ご連絡先：
●懇親会：ご出席・ご欠席
●堀場製作所東京分析センターご見学：希望する・希望しない
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【懇親会】
研究会後、18:00より開催いたします。
場所：トラットリア カンティーニ 神田淡路町店
http://kantini2008.net/index.html
千代田区神田美土代町11-1 神田KMビルB1
03-3295-5051
参加費：4500円（一般），3000円（学生）
【堀場製作所東京分析センター見学】
　 昼食休憩中の13:15より企画いたしますので、ご希望の方は、参加申込の際にあわせてお申込みください。
堀場製作所東京分析センターについては、以下URLを参照願います。
http://www.horiba.com/jp/scientific/application-center-jp/introduction/
【プログラム】
10:15 – 10:20 「開会の辞」
10:20 – 11:20
「チュートリアル1：Mueller ellipsometry: Basic Principles, Instrumentation and Applications」
E. Garcia-Caurel（LPICM, Ecole Polytechnique, CNRS, France）
偏光計測研究会ホームページ(http://res.tagen.tohoku.ac.jp/~psi/index.htm)に
て予稿が確認できます。
Dr. Enric GARCIA CAUREL： Resercher at Ecole Polytechnique since 2003.
Expert in Photonics, Polarization of light – Ellipsometry, Optical properties of materials and Optical instrumentation. He has developed three prototype polarimeters working in different spectral ranges such as the vacuum ultraviolet, the visible or the mid-infrared. His works include theoretical achievements related to the analysis of polarimetric
measurements and decomposition of Mueller matrices.
At this moment he is working on the industrialization of a patented broadband spectroscopic Mueller ellipsometer working from the ultraviolet to the mid-infrared spectral range.
He has been involved in more than 5 French research projects, 1 European project. He is author of 2 patents and more than 50 communications to international journals and conferences.
11:20 – 11:30 休憩
11:30 – 12:30
「チュートリアル2：Graphene and Plasmonics: the Nanoscale Challenges for Real-time Spectroscopic Ellipsometry」
Maria Losurdo（Institute of Inorganic Methodologies and of Plasmas, IMIP-CNR, Italy）
偏光計測研究会ホームページ(http://res.tagen.tohoku.ac.jp/~psi/index.htm)に
て予稿が確認できます。
Dr. Maria Losurdo is a Senior Scientist of the Italian national Council of Research in Bari, Italy, and Adjunct Professor of Materials Science at the Electrical and Computer Engineering Department at Duke University, NC. After receiving her PhD in Materials science from Bari Univeristy (Italy) she has built on a career exploiting spectroscopic ellipsometry for materials developement through extensive training at the Ecole Polytechnique (France) and at the Chemistry Department of
University of North Carolina. Presently, she runs the Pla.S.Ma & Elly laboratory (Plasmas and ellipsometry for semiconductor and nanostructured materials), where plasma processes for the growth and
treatment of semiconductors and nanostructured materials are developed exploiting real-time ellipsometry metrology. She is coordinating a
European program dedicated to the dissemination and exploitation of ellipsometry and polarimetry. She is editing the book “Ellipsometry at the Nanoscale”
12:30 – 14:00 昼食休憩
（13:15 – 事前申込の方のみ、堀場製作所東京分析センター見学）
14:00 – 14:30
「講演1：High-speed透過型Four Detector Polarimeterの開発」
川畑州一1, 津留俊英2, 田所利康3（東京工芸大学1, 東北大学多元研2, テクノシナジー3）
14:30 – 15:00
「講演2：半連続金属膜近傍における半導体ナノ結晶の発光遷移特性」
中村 俊博，古田 和也，安達 定雄（群馬大学大学院工学研究科）
15:00 – 15:30
「講演3：Real-time monitoring of optical anisotropy in the growth of PEDOT:PSS composite by electrospray deposition (ESD) using spectroscopic
ellipsometry for crystalline Si heterojunction solar cells」
日當大我, 渡辺恭平, 石川良, 上野啓司, 白井肇（埼玉大理工）
15:30 – 15:50 休憩
15:50 – 16:20
「講演4：斜入射検出器を用いた真空紫外エリプソメータによるストークス・パラメータおよび光学定数測定」
齋藤輝文1, 尾崎恭介2, 福井一俊2, 岩井浩紀2, 山本晃司3, 三宅秀人4, 平松和政4（東北工大工1, 福井大工2, 福井大遠赤3, 三重大工4）
16:20 – 16:50
「講演5：イオン液体のソフト界面の分光エリプソメトリー」
西直哉, 粕谷浩二, 大神諒, 垣内隆（京大院工）
16:50 – 17:20
「講演6：高分子／液晶ホログラフィック格子が有する光学異方性のθ－2θ分光回折法による解析」
垣内田洋*, 吉村和記, 田澤真人, 荻原昭文† (産総研、神戸高専†)
17:20 – 17:30 「閉会の辞」
18:00 – 懇親会
場所:小川町/淡路町駅近辺、参加費（有料）は別途ご連絡いたします。
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お問い合わせ先：
第8回偏光計測研究会 事務局：ナタリア ナバトバ-ガバイン（株式会社堀場製作所 東京セールスオフィス内）
E-mail: sales.hor@jp.horiba.com
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発信者：田所　利康