JST CREST（次世代フォトニクス）International Workshop ウェアラブルフォトニクスに関する国際会議 (2019/10/7)

1)主催団体名: 科学技術振興機構（JST） / 京都大学 / 理化学研究所
2)行事名: JST CREST（次世代フォトニクス）International Workshop ウェアラブルフォトニクスに関する国際会議 / JST CREST International Workshop :New Developments toward Wearable Photonics: From Materials to Devices
3)開催地・会場: アキバプラザ（東京都千代田区神田練塀町3 富士ソフト秋葉原ビル）
4)日付: 2019-10-07
開始時刻: 10:00
終了時刻: 16:50
5)リンクURL: https://www.jst.go.jp/kisoken/crest/research/activity/1111087/index.html
6)概要: 新しい材料の開発とその光機能や光物性の解明は、新しいフォトニクス開拓のために最も重要な課題です。
安価で操作性・生産性・加工性に優れた溶液化学法ならびに自己組織化法により作製されるナノ構造物質は、非常に高品質で多彩な光機能を持ち、軽量かつ柔軟で生体親和性も高いため、新しいスタイルのフォトニクス応用の展開が期待されます。
今回は、将来のウェアラブルフォトニクスの実現を可能にする材料の作製・評価からデバイス開発までを議論するワークショップを企画しています。
本ワークショップは、公開のワークショップであり、ハライドペロブスカイト、カーボンナノチューブ、アクアマテリアル、ナノシートなどの材料に焦点を絞り、当該分野で活躍する研究者をお招きし、最先端の研究動向を英語で紹介していただきます。参加費は無料ですので、ご興味のある方はぜひご参加ください。HPを通じての参加登録をお願い致します。締め切り：2019年10月4日(金)
【招待講演者】
Junichiro Kono(Rice Univ.)
Silvia Vignolini(Univ. Cambridge)
Qihua Xiong(Nanyang Tech. Univ.)
Yadong Yin(UC Riverside)
龔 剣萍(北海道大学)
染谷 隆夫(東京大学)